# 체취발생 메커니즘에 착안한 토털케어 시스템

우리 생활에서는 여러 가지 ‘냄새’가 존재한다. 그것은 좋은 냄새 뿐 아니라 불쾌하게 느끼는 냄새도 있다. 그 중 하나가 사람한테 나오는 ‘체취(體臭)’이다. 그림1의 설문조사 결과에 나타낸 것과 같이 성별과 세대에 관계없이 체취나 데오도런트(deodorant)에 대한 의식이 높은 것을 알 수 있다¹⁾.

그림1 몸의 냄새와 '데오도런트'에 대한 의식조사

체취는 두피냄새, 입냄새, 겨드랑이냄새, 발냄새, 땀냄새 등 전신 활동에 의해서 생성되는 다양한 물질이 원인이 되고 부위에 따른 원인물질 특징이나 발생 메커니즘에 대해서도 많은 연구에서 해명이 진행되고 있다. 일반적으로 체취는 착향제를 사용해 마스킹(masking)을 시키지만 일본인은 강한 향으로 체취를 마스킹하는 것보다도 불쾌한 체취 자체를 없애 주는 즉, 무취를 선호하는 경향이 있다.

체취를 마스킹할 때에는 향을 가하는 것만으로는 체취와 합쳐져서 쾌적하기는 어렵고 오히려 체취를 돋보이게 하거나 체취보다 더 높은 착향제를 함유해 착향제 향이 너무 강해지는 경향이 있다. 여기서 체취가 되는 성분의 생성과정을 볼 것 같으면 생성과정의각 단계를 억제해 체취성분의 생성을 줄이는 것을 고려하고 검토했다. 본고에서는 발생 메커니즘에 착안한 토털케어 시스템으로 두피냄새를 억제하는 기술의 개발사례에 대해 소개한다.

두피에 있는 비듬이나 각질 등 표피세포 유래의 지질과 또는 피지선에서 배출되는 물질은 각 단계에서 변형되고 구조적으로 변환되며 일부는 최종적으로 아이소발레릭애씨드(isovaleric acid)나 2-노네날(2-nonenal)을 대표하는 저급지방산이나 저급지방족알데하이드가 생성되고 있다. 그리고 생성된 저급지방산이나 저급지방족알데하이드가 휘발해 두피의 ‘냄새’로 우리는 느낀다. 그림2에서 두피냄새가 발생할 때까지를 주요 4단계로 생각해 각 단계를 억제시키는 수단을 나타냈다.